光刻机巨头ASML称中企可能侵权：有确凿证据将诉诸法律_阿斯麦_晶源_东方

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　光刻机巨头ASML称中企可能侵权：有确凿证据将诉诸法律

　　当地时间2月9日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）在2021年财报中提出指控，称中国企业东方晶源（DongFang JingYuan Electron，DFJY）正在中国积极销售可能侵犯阿斯麦知识产权的产品。而东方晶源的关联公司XTAL，曾在2019年被美国法院判定侵犯阿斯麦知识产权。

　　观察者网随后联系了东方晶源，对方工作人员称暂时不方便回应此事。而阿斯麦中国方面告诉观察者网，此事与XTAL之前的侵权案有关，是年报中的正常披露。阿斯麦正在密切关注东方晶源的动态，目前尚未准备采取法律措施，但如果有确凿证据该公司将诉诸法律。

阿斯麦研发人员 图源：阿斯麦

　　已告知中国监管部门

　　据阿斯麦财报中披露的信息，该公司在2021年初获悉，一家与XTAL公司有关的公司正在中国积极推销可能侵犯阿斯麦知识产权的产品，2019年XTAL曾因在美国盗取阿斯麦的商业秘密被判定做出赔偿。作为回应，阿斯麦已经告知客户不要协助这家名叫“东方晶源“的中国公司从事此类潜在的侵权行为。阿斯麦还透露，该公司已向中国监管部门告知相关信息，正在密切监测相关情况，并准备在适当的时机采取法律行动。

阿斯麦2021年财报截图

　　观察者网查询发现，东方晶源全称为东方晶源微电子科技（北京）有限公司，成立于2014年，总部位于北京亦庄经济技术开发区，专注于集成电路良率管理。亦庄国投曾披露，东方晶源由中国500强企业东方集团投资控股，而东方集团是一家成立于1978年的大型投资控股型民营企业。

　　从具体业务来看，东方晶源主要产品为纳米级电子束缺陷检测装备（EBI）和关键尺寸量测装备（CD-SEM）、计算光刻产品（OPC）以及微电子设计与制造智能良率优化平台（HPOTM）。该公司称，其产品均为自主研发且处于国内领先水平，可以有效解决国内集成电路产业多个难点。

东方晶源官网截图

　　而阿斯麦官网显示，该公司产品除光刻机之外，也包括用于提高芯片良率和质量的计算光刻，“如果没有计算光刻，芯片制造商就不可能制造出最新的技术节点”。

　　有资深业内人士告诉观察者网，在光刻过程中，光的衍射以及感光层中的物理和化学效应会使光刻机试图刻出的图像变形，因此需要计算光刻进行校准和优化。简单来说，计算光刻类似EDA中的算法，是一种晶圆厂需要购买的服务，如果曝光图形跟实际掩膜（Mask）有差异，可以通过计算光刻提前修正掩膜确保得到想要的图形。一般来说，如果晶圆厂觉得阿斯麦的计算光刻不够好，也可以选择第三方提供的产品，二者由此便会形成竞争。

阿斯麦官网截图

　　荷兰媒体无理攻击中国，遭阿斯麦反对

　　本次阿斯麦除指控东方晶源可能侵权外，还特意提到东方晶源与XTAL存在关联，而阿斯麦与XTAL的知识产权纠纷发生在数年之前，彼时还曾引发一些外媒对中国的无理攻击。

　　事情要从2016年说起。当年5月，阿斯麦向美国法院起诉美国公司XTAL，指控XTAL盗取阿斯麦美国子公司Brion的某些源代码和知识产权，并且称XTAL诱导和教唆阿斯麦员工在离职前秘密为其工作。

　　根据官方介绍，Brion是计算光刻概念的提出者，该公司2007年被阿斯麦收购。而XTAL于2014年由两名曾在Brion工作过的员工创立，致力于提高半导体制造过程中的良率，业务也包括计算光刻。据当时的外媒报道，XTAL在成立之后发展迅猛，而阿斯麦在失去一个关键客户的合同后开始对XTAL产生怀疑。

Brion相关介绍

　　阿斯麦向法院提出的指控称，在XTAL成立1年后，两名阿斯麦员工辞职加入该公司，这两名员工将Brion的商业机密复制到存储设备上带走，用于促进XTAL的业务，并且他们随后还与两名仍在Brion工作的前同事一起窃取机密信息。